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                      • 光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)

                        光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner) 光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,紫外曝光機等;ECOPIA為的半導體設備供應商,多年來(lái)致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設備生產(chǎn)能力;并且其設備被眾多著(zhù)名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以

                        更新時(shí)間:2020-11-01

                        廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商

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