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                      • WEP CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測量?jì)x

                        WEP CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測量?jì)x 德國WEP公司的CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測試儀可高效、準確的測量半導體材料(結構,層)中的摻雜濃度分布。選用合適的電解液與材料接觸、腐蝕,從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過(guò)程由軟件全自動(dòng)控制。 電化學(xué)ECV剖面濃度測試儀主要用于半導體材料的研究及開(kāi)發(fā),其原理是使用電化學(xué)電容-電壓法來(lái)測量半導體材料的摻雜濃度分布。電化學(xué)ECV(

                        更新時(shí)間:2020-11-01

                        廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商

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